產品介紹

半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質技術分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質。

工藝簡介

電子、半導體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不好的話，會影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

工藝流程

產品特點

電子工業(yè)超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構成主要設備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

主要應用

1、大規(guī)模集成電路元器件的生產用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國家有關用水標準(GB/T11446.1-1997)執(zhí)行。
2、電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據電子元件生產工藝不同，其用水標準中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(一級電導率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM)。

技術特征

1、制取電子級超純水；
2、可連續(xù)自動生產，不必停機再生；
3、出水水質優(yōu)于常規(guī)離子交換法；
4、不需酸堿再生，不污染環(huán)境；
5、運行成本低，占地面積小；

應用范圍

1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產品;
6、其他高科技精微產品。

進水標準

通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水。    TEA(總可交換陰離子，以CaCO3計)：<25ppm。    

電導率：<40μS/cm。    溫度： 5～35℃。    

有機物( TOC)：<0.5ppm。    氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。    

變價金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。    H2S：<0.01ppm。    

二氧化硅：<0.5ppm。    色度：<5APHA。    

二氧化碳的總量：<10ppm    SDI 15min：<1.0。    

進水壓力：<4bar(60psi)。    硬度：(以CaCO3計)：<1.0ppm。    

PH：6.0～9.0。當總硬度低于0.1ppm時，EDI工作的pH范圍為8.0～9.0。    

出水標準

中國電子行業(yè)超純水 國家標準GB/T1146.1-1997
實驗室用水國家標準GB6682-92
美國半導體工業(yè) 用純水 指標
美國試驗級用水標準(ASTM/NCCLS)